當前位置:首頁 > 超聲波清洗器去蠟實驗

超聲波清洗器去蠟實驗

[導讀]超聲波清洗器去蠟實驗。

通過超聲清洗效應分析,可以看出:超聲波主要通過空化作用、直進流作用和加速度來達到清洗的目的。在超聲過程中,超聲頻率低,則空化作用強,加速度和直進流作用不顯著;超聲頻率高,則空化作用弱,加速度和直進流起主要作用。因此我們進行3 組超聲去蠟實驗,通過改變超聲波的功率密度和頻率來更直觀地了解超聲波清洗技術在去蠟工藝中的應用。


去蠟結束后,將晶片清洗甩干,在熒光燈下觀察晶片背面去蠟狀況。實驗一,去蠟超聲后,晶片背面呈現點狀白;實驗二,去蠟超聲后,晶片背面有白色條狀印痕,且印痕都呈現從載片花籃底部向上的分散狀;實驗三,去蠟超聲后,晶片背面完好,與晶片拋光前狀態一致。



超聲波清洗技術主要通過超聲波的空化、加速度和直進流作用來達到晶片清洗的目的,必須根據實際清洗需求,選擇合適的超聲波頻率和功率密度完成晶片的清洗。




相關文章

精品91一区二区三区