當前位置:首頁 > HCFC-141B在鍍膜清洗上的應用方法

HCFC-141B在鍍膜清洗上的應用方法

[導讀]光學零件鍍膜前通常需要經過多道清洗工序, 根據對表面物質的不同采取不同的清洗方法,包括擦拭、超聲波清洗、汽相清洗等。

光學鍍膜件除了對膜層的環境可靠性要求很高之外,對膜層表面質量也有嚴格的要求,鍍膜前的清洗是重要的決定性因素之一。在鍍膜前的清洗過程中,根據清洗工藝用不同的清洗劑通過擦拭、超聲波清洗等工序之后,基底表面已經達到了一定的清潔程度,但基底上往往容易殘留印跡,嚴重影響對零件的表面狀況要求。為解決此類問題,在清洗過程之后,采用HCFC - 141B 作為最后一道清洗劑。由于HCFC - 141B 沸點很低,很容易揮發,表面印跡經過HCFC - 141B 溶劑后很容易顯現出來,可根據表面狀況針對性地實施處理,同時也對前階段未曾完全清洗干凈的有機污質進行了又一次清洗去除。


在汽相清洗設備中,通常采用蛇形冷凝管,可以使有機溶劑蒸汽冷凝液化,使蒸汽適中保持在槽內,通過加熱有機溶劑HCFC - 141B 蒸發、液化冷凝到基底表面、溶解污物的過程,經過持續加熱后沸騰,形成大量氣化蒸汽,使清洗槽上部工作空間充滿有機溶劑蒸汽。該蒸汽在基底表面冷凝液化,使基底表面污物溶解,在重力作用下含有污垢的溶劑液體從被清洗材料表面向下流動而進入液相溶劑中,最終脫離基底表面實現潔凈表面,從而達到基底表面高潔凈度的要求。

由于CFC - 141B 也屬于ODS,目前作為代替CFC - 113 的過渡,也將被更為環保的試劑所代替。尋求更為環保的試劑,也是清洗業后續工作的主要目標之一。




相關文章

精品91一区二区三区