1 　高頻超聲清洗

對于像硅片表面小至零點幾微米的超微污物粒子, 常規的超聲波清洗器無能為力, 即使增加功率密度也無濟于事。近來發展了一種兆赫茲級的高頻超聲清洗技術, 由于頻率高, 空化效應已不起作用, 因此清洗的關鍵不是氣泡, 是高頻壓力波的擦洗作用,其對污物的去除率接近百分之百。高頻清洗近來發展較快, 主要用于超大規模集成電路芯片上的污物清洗, 以及硅晶片、陶瓷、光掩模等特種污物的清洗。

2 　聚焦式清洗

對于像紡織行業的噴絲板、過濾器之類微孔物件的清洗, 常規的超聲清洗效果十分不理想, 聲強達不到要求, 而采用機械掃描聚焦式超聲清洗, 噴絲板微孔中的污物脫離則十分明顯。聚焦式清洗要求達到高的聲強, 目前選用的頻率以低頻為主, 常用20kHz 和15 kHz 兩種頻率, 個別的頻率也有28 kHz 的,其電功率在連續波情況下一般為500 ～ 700 W , 間隙脈沖工作狀態下, 功率可高一些。

3 　多頻清洗

即在一只清洗槽中, 安裝有兩種或三種以上不同頻率的換能器, 由多只發生器分別推動各自頻率的換能器。我們知道, 清洗器工作頻率高時, 在液體中空化強度低而空化密度大, 而工作頻率低時則相反。低頻超聲波的強度高, 對物體表面清洗有利, 高頻超聲波空化密度高, 沖擊波能穿達凹槽、細縫、深孔等細微結構。同時缸中有多種頻率的超聲波, 也克服了單頻清洗駐波場造成的清洗不均勻問題。

4 　掃頻和跳頻清洗

掃頻和跳頻清洗都是為了改善槽中的聲場結構, 前者解決了槽中的不均勻駐波場, 使清洗均勻。而跳頻和多頻一樣兼顧到高低頻清洗, 不同的是跳頻用的是一個換能器和一個發生器, 其換能器本身有兩個諧振頻率, 在第一諧振點帶寬內作連續的頻率變化, 然后跳到另一帶寬內進行掃頻清洗, 是高低頻交替進行清洗 。